01
인시츄 / 인오페란도 고압 가스 환경
주요 특징
FLOW-OS는 고온고압의 환경에서 X-ray 분석을 하나의 연구 흐름으로 연결해야 하는 소재 연구 프로그램에 적합한 방향으로 설계됩니다.
02
XRD측정과 온도및 압력 연동
03
최대 1000도 / 600바
적용 분야 / Use Case
가혹 조건과 XRD 연구흐름 연계
01
가혹 환경하의 구조 변화 연구
02
Operando 또는 In-situ XRD 실험 구성
03
분말 적용 환경
기술 포인트
FLOW-OS는 고온고압의 환경에서 X-ray 분석을 하나의 연구 흐름으로 연결해야 하는 소재 연구 프로그램에 적합한 방향으로 설계됩니다.
Linked Workflow
Linked Workflow
온도와 압력 동작 맥락과 XRD 측정 흐름을 연결하는 응용 구성이 가능합니다.
Research Fit
Research Fit
프로젝트별 실험 조건 차이가 큰 연구실 환경을 고려합니다.
Engineering Scope
Engineering Scope
지그, 인터페이스 조정을 연구 목적에 맞춰 검토할 수 있습니다.
기본 사양
고압 가스 분위기 환경과 진공의 고온에서 X-ray 분석이 가능한 응용 장비 플랫폼으로, 연구 조건에 최적화된 시스템 구성을 지원합니다.
| 적용 분야 | 가혹조건의 XRD 연구환경 |
|---|---|
| 구성 방향 | 분말 측정 |
| 핵심 기능 | 고온-고압 환경과 XRD 연동 |