XRD Application Systems
FLOW-OS (작업중)
고압 가스 분위기 환경과 진공의 고온에서 X-ray 분석이 가능한 응용 장비 플랫폼으로, 연구 조건에 최적화된 시스템 구성을 지원합니다.
주요 특징
- In-situ / Operando 고압 가스 환경
- XRD측정과 온도및 압력 연동
- 최대 1000도 / 600바
적용 분야 / Use Case
가혹 조건과 XRD 연구흐름 연계
FLOW-OS는 고온고압의 환경에서 X-ray 분석을 하나의 연구 흐름으로 연결해야 하는 소재 연구 프로그램에 적합한 방향으로 설계됩니다.
- 가혹 환경하의 구조 변화 연구
- Operando 또는 In-situ XRD 실험 구성
- 분말 적용 환경
기술 포인트
Linked Workflow
온도와 압력 동작 맥락과 XRD 측정 흐름을 연결하는 응용 구성이 가능합니다.
Research Fit
프로젝트별 실험 조건 차이가 큰 연구실 환경을 고려합니다.
Engineering Scope
지그, 인터페이스 조정을 연구 목적에 맞춰 검토할 수 있습니다.
기본 사양
| 적용 분야 | 가혹조건의 XRD 연구환경 |
|---|---|
| 구성 방향 | 분말 측정 |
| 핵심 기능 | 고온-고압 환경과 XRD 연동 |